Plasma Enhanced CVD Forno Tubo (PECVD) per SiOx e SiNx deposizione su celle solari al silicio

Name: Plasma Enhanced CVD Forno Tubo (PECVD) per SiOx e SiNx deposizione su celle solari al silicio
Brand: Zhengzhou TCH Instrument Co., Ltd.
SKU: 60741922593
Price: 2,000 USD
Availability: InStock

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Zhengzhou TCH Instrument Co., Ltd. 8 yrs

Plasma Enhanced CVD Forno Tubo (PECVD) per SiOx e SiNx deposizione su celle solari al silicio

Attributi chiave

Altri attributi

Punto d'origine

Henan, China

Marca

TCH

Numero del Modello

TCH-PECVD-12I-3Z/G

Nome del prodotto

1200C Max. Sistema di fornace a tubo PECVD

Domanda

Apparecchiature di prova di riscaldamento da laboratorio

Temperatura Max

1200C

Temperatura di lavoro

1100.C

Elemento riscaldante

Elementi riscaldanti

Controllo della temperatura

Controllo automatico del programma

Materiale del tubo

Quarzo ad alta purezza

Termocoppia

Tipo K

Garanzia

1 anno

Contatto mobile

0086 18135778330

Imballaggio e consegna

Pacchetto

standard export package

Orificio

China port

Capacità di fornitura

300 Insieme/insiemi per Month

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